垂直整合
有源區(qū)外延工藝
光柵工藝
二次外延工藝
晶圓工藝
自動化芯片測試
芯片高頻測試
可靠性測試驗證
僅襯底與氣體源外購,完全達到外延自主開發(fā)與生產;
具備InGaAsP與AllnGaAs雙材料外延技術;
具備掩埋型波導外延技術。
全息光柵曝光技術;
電子束相位光柵技術;
100nm納米級線寬刻蝕技術。
多年外延經驗積累,保證多次外延產品良率;
異質對接外延技術;
光器件集成技術;
高效電注入材料實現(xiàn);
功能性光波導材料實現(xiàn)。
多年晶圓工藝細節(jié)積累;
制程參數(shù)統(tǒng)計管控。
引進國外全自動芯片測試機,芯片級全測把控;
常溫、高溫、低溫篩選工溫級產品(-40~95°C),以測試把控取代設計保證;
光功率、溫度敏感參數(shù)、光譜、背光、發(fā)散角等重要特性參數(shù)測試與分析能力;
傳纖靈敏度測試系統(tǒng),提早預判客戶端測試效果。
自主CoC封裝設計,驗證芯片級高頻設計;
全溫眼圖與帶寬測試系統(tǒng),對出貨產品嚴格把控;
RIN 測試系統(tǒng),穩(wěn)定產品噪聲干擾。
芯片級可靠性驗證,逐片考核,精確保證每一片晶圓的出貨質量;
氣密與非氣密老化測試、高溫老化測試、雙85測試、低溫儲存、溫循測試、ESD、推拉力測試。